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X-RAY FLUOROSCOPIC APPARATUS
专利权人:
HITACHI LTD;株式会社日立製作所
发明人:
SAKAI TOMOJI,坂井 友治
申请号:
JP2018210720
公开号:
JP2020074978A
申请日:
2018.11.08
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent an ineffective exposure of a subject when determining an appropriate irradiation condition of X-ray pulse.SOLUTION: An X-ray fluoroscopic apparatus 100 includes: an X-ray tube 1 for irradiating repeated X-ray pulse at a predefined pulse rate to a subject 101; an X-ray detector 10 for detecting the X-ray that has penetrated through the subject 101; a distance measuring part 6 provided in the vicinity of the X-ray tube 1 and measuring a first distance d1 to a body surface of the subject 101; and a system control part 14 that determines the irradiation condition of the repeatedly irradiated X-ray pulse according at least to the first distance d1.SELECTED DRAWING: Figure 1COPYRIGHT: (C)2020,JPO&INPIT【課題】X線パルスの適切な照射条件を決定する際の、被検者の無効被ばくを防ぐことを目的とする。【解決手段】X線透視撮影装置100は、所定のパルスレートで繰り返しX線パルスを被検者101に照射するX線管1と、被検者101を透過したX線を検出するX線検出器10と、X線管1近傍に設けられ、被検者101の体表までの第1の距離d1を測定する測距部6と、少なくとも第1の距離d1に応じて、繰り返し照射されるX線パルスの照射条件を決定するシステム制御部14とを備える。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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