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化粧料
专利权人:
MJ INC
发明人:
NISHIYAMA HIROHITO,西山 浩仁,HORIUCHI KOZO,堀内 弘三
申请号:
JP2014101550
公开号:
JP2015218124A
申请日:
2014.05.15
申请国别(地区):
JP
年份:
2015
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cosmetic for applying mixture containing hydrogen which is generated by reaction of hydrogen generating compound and water to the skin surface, the cosmetic remarkably suppressing rapid scattering of hydrogen from the skin surface and allowing hydrogen to exhibit sufficient reduction power on the skin surface.SOLUTION: The cosmetic contains hydrogen which is generated by mixing when in use, A agent containing hydrogen generating compound which reacts with water and generates hydrogen and B agent containing water and hydrophilic thickener, wherein the A agent contains at least one kind selected from a group consisting of alkaline earth metal hydride and borohydride metal salt as the hydrogen generating compound and the B agent contains polyethyleneglycol-containing polymeric compound as the hydrophilic thickener.COPYRIGHT: (C)2016,JPO&INPIT【課題】水素発生化合物と水と反応により発生する水素を含む混合物を肌表面に塗布する化粧料において、水素の肌表面からの急速な飛散を顕著に抑制し、水素の還元力を肌表面で十分に発揮させることができる化粧料を提供する。【解決手段】水と反応して水素を発生する水素発生化合物を含むA剤と、水及び親水性増粘剤を含むB剤とを使用時に混合することで発生する水素を含む化粧料であって、A剤が水素発生化合物として水素化アルカリ土類金属及び水素化ホウ素金属塩よりなる群から選ばれる少なくとも1種を含み、かつ、B剤が親水性増粘剤としてポリエチレングリコール含有高分子化合物を含む化粧料【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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