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SURFACE MODIFICATION OF IMPLANT DEVICES
专利权人:
GEORGIA TECH RESEARCH CORPORATION
发明人:
GITTENS IBACACHE, Rolando A.,VERNON, Jonathan,SANDHAGE, Kenneth H.,BOYAN, Barbara
申请号:
USUS2012/068469
公开号:
WO2013/086336A1
申请日:
2012.12.07
申请国别(地区):
WO
年份:
2013
代理人:
摘要:
The present invention provides implant devices comprising nanoscale structures on the surface thereof and methods of manufacturing such implant devices. In some embodiments, methods of manufacturing an implant device comprise exposing a surface of the implant device to an oxidative hydrothermal environment for a duration sufficient to generate nanoscale structures on the exposed surface(s) of the implant device.La présente invention concerne des dispositifs dimplant comprenant des nanostructures sur leur surface et des procédés de fabrication de tels dispositifs dimplant. Selon certains modes de réalisation, les procédés de fabrication dun dispositif dimplant comprennent lexposition dune surface du dispositif dimplant à un environnement hydrothermal oxydant pendant une durée suffisante pour générer des nanostructures sur la ou les surfaces exposées du dispositif dimplant.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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