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배양 기재, 배양 시트 및 세포 배양 방법
专利权人:
发明人:
다까하시 료오스께,히사다 아끼꼬,소노다 히로시,사이또오 다꾸
申请号:
KR1020117030767
公开号:
KR1015128780000B1
申请日:
2010.06.22
申请国别(地区):
KR
年份:
2015
代理人:
摘要:
culture substrate surface to be coated without chemicals , diameter matched 3 provides a cultured sheet that allows the technique to form a dimensional texture . Incubation of the culture on the sheet substrate , the plurality of holes are formed , the bottom surface of each of the holes culture surface , a nano filler that can control the adhesion and chemotaxis of cells U are formed. Each hole culture surface , and the structure is installed in the partition wall , the nano filler of the inner , formed near the center of each hole , limits the interaction of the seeded cells, even the size of the three-dimensional structure of cells that is formed it is possible to be .배양 기재 표면에 화학 물질을 도포하는 일 없이, 직경이 일치된 3차원 조직을 형성시키는 기술을 가능하게 하는 배양 시트를 제공한다. 배양 기재의 배양 시트 상에, 복수의 홀이 형성되고, 각각의 홀의 저면인 배양면에는, 세포의 접착성이나 유주성을 제어할 수 있는 나노 필러가 형성된다. 각 홀의 배양면은, 구획벽을 설치한 구조로 하고, 내부의 나노 필러를, 각 홀의 중심 부근에 형성함으로써, 파종된 세포의 상호 작용을 제한하고, 형성되는 세포의 3차원 구조의 크기를 균일하게 하는 것이 가능해진다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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