レジストパターンの形成方法、およびメッキ造形物の製造方法
- 专利权人:
- ＪＳＲ株式会社
- 发明人:
- 廣 昭人,秋丸 尚徳,榊原 宏和,桂山 真
- 申请号：
- JP20150208008
- 公开号：
- JP2017078836(A)
- 申请日:
- 2015.10.22
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【解決手段】基板上に、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、１分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物（Ｂ）、光ラジカル重合開始剤（Ｃ）、及び光吸収剤（Ｄ）（前記（Ｃ）成分を除く）を有する感光性樹脂組成物の樹脂膜を形成する工程（１）、前記樹脂膜を、開口数０．０５〜０．２のレンズを介して縮小投影露光する工程（２）、および露光後の樹脂膜を現像する工程（３）を有することを特徴とするレジストパターンの形成方法。【効果】焦点深度の深いレジストパターンを形成することができる。【選択図】なし
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
