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ジベンゾイルメタン誘導体およびジチオラン化合物を含む化粧用組成物、ジベンゾイルメタン誘導体を光安定化する方法
专利权人:
ロレアル
发明人:
カリーヌ・ルセット-レバニール,ベノワ・ミューラー
申请号:
JP2009229659
公开号:
JP5710114B2
申请日:
2009.10.01
申请国别(地区):
JP
年份:
2015
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cosmetic composition containing an ultraviolet absorbent dibenzoylmethane derivative and a dithiolane compound, and a method for photo-stabilizing a dibenzoylmethane derivative.SOLUTION: The cosmetic composition contains the dibenzoylmethane derivative and the dithiolane compound shown by formula (I), wherein Y is O or NR1, R1 is H, an alkyl and an aryl, and R is H or an alkyl and has optionally one or a plurality of groups selected from OR2, SR2, NR2R3 and COOR2, wherein R2 is H, a group based on a saturated straight chain or branched or unsaturated hydrocarbon, or an aryl group, R3 is H, a group based on a saturated straight chain or branched or unsaturated hydrocarbon, an aryl group or an acetyl group, and R and R1 may form an annular amine. The composition photo-stabilizes to a radiation beam.COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT【課題】紫外線吸収剤ジベンゾイルメタン誘導体およびジチオラン化合物を含む化粧用組成物、ジベンゾイルメタン誘導体を光安定化する方法を提供する。【解決手段】ジベンゾイルメタン誘導体と、以下の式(I)のジチオラン化合物との組合せを含む化粧用組成物に関し、式中、Yは、OまたはNR1を表し、R1は、水素原子、アルキル基、アリール基を表し、Rは、水素原子、アルキル基を表し、Rは、OR2、SR2、NR2R3およびCOOR2から選択される1つもしくは複数の置換基を場合によって有し、ここで、R2は、水素原子あるいは飽和直鎖状もしくは分枝または不飽和炭化水素に基づく基、あるいはアリール基を表し、R3は、水素原子、飽和直鎖状もしくは分枝または不飽和炭化水素に基づく基、アリール基、アセチル基を表し、RおよびR1は、環状アミンを形成していてよい。この組成物は放射線に対して光安定化する。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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