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DISPOSITIF D'IRRADIATION DE PLASMA ET PROCÉDÉ D'IRRADIATION DE PLASMA
专利权人:
FUJI MACHINE MFG. CO., LTD.; LTD.;FUJI MACHINE MFG. CO.;富士機械製造株式会社
发明人:
HIGASHIDA Akihiro,東田明洋,JINDO Takahiro,神藤高広
申请号:
JPJP2016/074422
公开号:
WO2018/037468A1
申请日:
2016.08.22
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
The present invention addresses the problem of providing a plasma irradiation device capable of controlling performance of plasma constant, said plasma being to be applied to a subject to which plasma is to be applied.The problem can be solved by means of a plasma irradiation device that includes at least: a plasma jetting device that jets plasma; a container capable of disposing inside at least a plasma jetting port of the plasma jetting device; and a gas sensor that measures the atmosphere in the container.La présente invention aborde le problème de la fourniture d'un dispositif d'irradiation de plasma permettant de commander la performance de constante de plasma, ledit plasma devant être appliqué à un sujet auquel un plasma doit être appliqué. Le problème peut être résolu au moyen d'un dispositif d'irradiation de plasma qui comprend au moins : un dispositif de projection de plasma qui projette du plasma ; un récipient pouvant être disposé à l'intérieur d'au moins un orifice de projection de plasma du dispositif de projection de plasma ; et un capteur de gaz qui mesure l'atmosphère dans le récipient.被照射体に照射するプラズマの能力を一定にコントロールできるプラズマ照射装置を提供することを課題とする。 プラズマを噴出するプラズマ噴出装置、前記プラズマ噴出装置の少なくともプラズマ噴出口を内部に配置できる容器、前記容器内の雰囲気を測定するガスセンサ、を少なくとも含む、プラズマ照射装置により課題を解決できる。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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