您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

NOUVEAU COPOLYMÈRE SÉQUENCÉ RÉSINE – ORGANOPOLYSILOXANE LINÉAIRE, ET APPLICATION AINSI QUE PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI
专利权人:
ダウ コーニング コーポレーション; LTD.;DOW CORNING TORAY CO., LTD.;東レ・ダウコーニング株式会社;DOW CORNING CORPORATION;DOW CORNING TORAY CO.
发明人:
FURUKAWA Haruhiko,古川晴彦,HORSTMAN John Bernard,ホーストマン ジョン バーナード,IIMURA Tomohiro,飯村智浩,OKAWA Tadashi,大川直,SWIER Steven,スゥイアー スティーブン,ホーストマン ジョン バーナード,スゥイアー スティーブン
申请号:
JPJP2017/036021
公开号:
WO2018/066572A1
申请日:
2017.10.03
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
Provided is a novel resin-linear organopolysiloxane block copolymer which has a high degree of freedom in formulation due to excellent compatibility with other lipophilic starting materials, and which exhibits excellent film forming properties and followability of a film, while being suppressed in stickiness of a film or the like. This resin-linear organopolysiloxane block copolymer has a resin structure (A1) block that has siloxane units represented by R1SiO3/2 (wherein R1 represents a monovalent organic group, a hydroxyl group or an alkoxy group having 1-6 carbon atoms) and SiO4/2, and a linear structure (A2) block represented by (R2SiO2/2)n (wherein n represents a number of 5 or more; and R represents an alkyl group, a fluoroalkyl group or an aryl group) in each molecule; the resin structure (A1) and the linear structure (A2) are linked to each other by an Si-O-Si bond; and an Si atom bonded to the resin structure (A1) constitutes an RSiO3/2 unit.L'invention fournit un nouveau copolymère séquencé résine – organopolysiloxane linéaire qui en raison de son excellente compatibilité avec d'autres matières premières lipophiles, présente un degré de liberté élevé en termes de mode de préparation et d'excellentes propriétés de formation de film et d'adaptabilité de film, et dont la sensation collante du film est inhibée. Ledit copolymère séquencé résine – organopolysiloxane linéaire possède, dans chaque molécule, une séquence d'une structure de résine (A1) possédant une unité siloxane représentée par R1SiO3/2 (R1 un groupe organique monovalent, un groupe hydroxyle ou un groupe alcoxy de 1 à 6 atomes de carbone) et SiO4/2, et une séquence d'une structure linéaire (A2) représentée par (R2SiO2/2)n (n équivaut à un nombre supérieur ou égal à 5, et R représente un groupe alkyle, un groupe fluoroalkyle ou un groupe aryle). En outre, la structure de résine (A1) et la structure linéaire (A2) sont liées au moyen d'une liaison Si-O-Si. Un atome de Si lié à une structure de résine
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充