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Novel resin-linear organopolysiloxane block copolymer, use thereof, and production method thereof
专利权人:
ダウ シリコーンズ コーポレーション;東レ・ダウコーニング株式会社
发明人:
古川 晴彦,ジョン・バーナード・ホーストマン,飯村 智浩,大川 直,スティーブン・スゥイアー
申请号:
JP2018543923
公开号:
JPWO2018066572A1
申请日:
2017.10.03
申请国别(地区):
JP
年份:
2019
代理人:
摘要:
New resin-linear organo, which is highly compatible with other lipophilic raw materials, has a high degree of freedom in formulation design, has excellent film-forming properties and coating follow-up properties, and suppresses the stickiness of the coating. A polysiloxane block copolymer is provided. The resin-linear organopolysiloxane block copolymer has R1SiO3 / 2 (R1 is a monovalent organic group, a hydroxyl group or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms) and a siloxane unit represented by SiO4 / 2 in the molecule. Resin structure (A1) block and (R2SiO2 / 2) n (n is a number of 5 or more, R is an alkyl group, a fluoroalkyl group or an aryl group) and has a linear structure (A2) block In addition, the resin structure (A1) and the linear structure (A2) are connected by a Si—O—Si bond, and Si atoms bonded to the resin structure (A1) constitute an RSiO3 / 2 unit.他の親油性原料との相溶性に優れるため、処方設計の自由度が高く、造膜性および皮膜の追従性に優れ、かつ、皮膜のべたつき感等が抑制された、新規なレジン-リニアオルガノポリシロキサンブロックコポリマーを提供する。上記レジン-リニアオルガノポリシロキサンブロックコポリマーは、分子内に、R1SiO3/2(R1は一価有機基、水酸基または炭素原子数1~6のアルコキシ基)およびSiO4/2で表されるシロキサン単位を有するレジン構造(A1)ブロックと、(R2SiO2/2)n (nは5以上の数であり、Rはアルキル基、フルオロアルキル基またはアリール基 )で表されるリニア構造(A2)ブロックとを有し、かつ、レジン構造(A1)とリニア構造(A2)がSi-O-Si結合により連結されており、レジン構造(A1)に結合するSi原子がRSiO3/2単位を構成している。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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