熔体挤出的膜
- 专利权人:
- 陶氏环球技术有限责任公司
- 发明人:
- M.哈尔,M.里德,U.施雷萨
- 申请号：
- CN201180016257.0
- 公开号：
- CN102892815A
- 申请日:
- 2011.02.25
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2013
- 代理人:
- 摘要：
- 其中至少一个层的厚度为至少0.125mm的单层或多层膜由包含以下组分的熔体挤出的聚合物制备a)水溶性聚合物，b)活性成分和c)辅料，选自单糖和二糖，糖醇，低分子量水溶性聚合物，和交联的羧甲基纤维素的盐，条件是辅料c)不同于所述水溶性聚合物a)。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
