The present invention provides an implant comprising an isotope capable of producing a dose of ionizing radiation upon exposure to a flux of low energy neutrons, and a method in which, after implantation, the implant is exposed to a flux of low energy neutrons to control or treat infections.La présente invention concerne un implant comprenant un isotope capable de produire une dose de rayonnement ionisant lors de l'exposition à un flux de neutrons à faible énergie, et un procédé dans lequel, après l'implantation, l'implant est exposé à un flux de neutrons à faible énergie pour contrôler ou traiter des infections.
