This invention in order to decrease the generation of the side effect, regards preparing arerugoido from allergen with chemical qualification. In detail, as for this invention, as the lysine residue of the allergen numerator and everything or part of 1 class amine bases of the arginine residue are shown to constitutional formula (i) in regard to the alteration allergen whose allergen Characteristic is little in comparison with the natural allergen material which corresponds, it designates that it is qualification as feature, the above-mentioned alteration allergen below-mentioned constitutional formula (i) (in formula, as for R and R2 becoming independent, H, C1-C5 alkyl, optionally ortho position, the meta position, or at para position the hydroxy and the C1-C4 alkoxy, halogen, is chosen from amino and the phenyl displacement with alkylamino, dialkylamino, merukaputo and the C1-C4 arukirumerukaputo basis X shows O, S or NR3, R3 is alkyl, phenyl or CN of 6 from H and carbon count 1 As for R1 from H and carbon count 1 the alkyl, phenyl or carbon count of 8 showing the aryl alkyl maximum of 8 or the alkyl which includes complex ring As for prot showing protein residue of allergen n being the number of arginine bases qualification, from 1, is the range to the number of arginine bases which exist in the allergen m being the number of lysine bases qualification, from 1, is the range to the number of lysine bases which exist in the allergen) features that it possesses.本発明は、副作用の発生を減らすために、化学修飾によってアレルゲンからアレルゴイドを調製することに関する。詳細には、本発明は、対応する天然のアレルゲン物質に比べてアレルゲン性が少ない改変アレルゲンに関し、アレルゲン分子のリシン残基およびアルギニン残基の1級アミン基のすべてまたは一部が構造式(I)に示されるように修飾されていることを特徴とし、上記改変アレルゲンが下記の構造式(I)〔式中、RおよびR2は独立してH、C1-C5アルキル、任意にオルト位、メタ位、またはパラ位にてヒドロキシ、C1-C4アルコキシ、ハロゲン、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、メルカプト、C1-C4アルキルメルカプト基で置換されたフェニルから選択され;XはO、S、またはNR3を示し、R3はH、炭素数1から6のアルキル、フェニル、またはCNであり;R1はH、炭素数1から8のアルキル、フェニル、または炭素数が最大8のアリールアルキル、または複素環を含むアルキルを示し;protはアレルゲンのタンパク質残基を示し;nは修飾されたアルギニン基の数であって、1から、アレルゲンに存在するアルギニン基の数までの範囲であり;mは修飾されたリシン基の数であ
