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次亜塩素酸水溶液の製造又は調製方法及び装置
专利权人:
熊倉;淳一
发明人:
熊倉 淳一,村上 秀樹
申请号:
JP2016118383
公开号:
JP6230079B1
申请日:
2016.06.14
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
To provide a hypochlorous acid aqueous solution capable of exerting high bactericidal activity on a long-term basis.SOLUTION: This method has a stock solution supplying step of supplying an aqueous solution containing hypochlorous acid ions, a charging step of imparting a negative charge to the filter, and a filtration step of passing the aqueous solution through the filter imparted with electric charge , A method for producing or preparing a hypochlorous acid aqueous solution.Selection drawing None【課題】 高い殺菌性を長期的に発揮することが可能な次亜塩素酸水溶液の提供。【解決手段】 次亜塩素酸イオンを含む水溶液を供給する原液供給工程と、フィルターにマイナスの電荷を付与する帯電工程と、電荷を付与された前記フィルターに前記水溶液を通過させるろ過工程とを有する、次亜塩素酸水溶液の製造又は調製方法。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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