A personal wash composition which provides an effective antimicrobial benefit against fungi, gram positive and gram negative bacteria, which composition comprises: a) from 0.1% to 10 wt % betaine surfactant, b) from 0.1% to 5.0 wt % lactic acid, c) from 0.1% to 20 wt % polyhydric C2-C6 alcohol, d) from 0% to 10 wt % alkyl polyethoxy carboxylate of the formula RO(CH2CH2O)kCH2COO−M+ wherein R is a C8-C22 alkyl, k is an integer from 0 to 20, and M is a soluble salt-forming cation, e) from 0% to 10 wt % alkyl polyethoxy amides of the formula RO(CH2CH2O)kCH2CONH2 wherein R is a C8-C22 alkyl, k is an integer from 0 to 20, f) >；8 wt % alkyl ether sulphate, g) water, h) a pH of 3.8-4.5, i) 10-20 wt % total surfactant, j) from 0.1 to 10 wt % metal salt.La présente invention concerne une composition d'hygiène personnelle qui confère un effet antimicrobien efficace contre les champignons, les bactéries gram positives et gram négatives, ladite composition comprenant : a) de 0,1 % à 10 % en poids d'un agent tensioactif de type bétaïne, b) de 0,1 % à 5 % en poids d'acide lactique, c) de 0,1 % à 20 % en poids d'un polyol en C2-C6, d) de 0 % à 10 % en poids d'un polyéthoxy-carboxylate d'alkyle de formule RO(CH2CH2O)kCH2COO"M+ dans laquelle R représente un alkyle en C8-C22, k représente un nombre entier de 0 à 20, et M représente un cation formant un sel soluble, e) de 0 % à 10 % en poids d'un polyéthoxy-amide d'alkyle de formule RO(CH2CH2O)kCH2CONH2 dans laquelle R représente un alkyle en C8-C22, k représente un nombre entier de 0 à 20, f) une proportion supérieure à 8 % en poids d'un éther-sulfate d'alkyle, g) de l'eau, h) un pH de 3,8 à 4,5, i) de 10 % à 20 % en poids du total d'agent tensioactif, j) de 0,1 à 10 % en poids d'un sel métallique.
