The present invention relates to low pH antimicrobial solutions comprising hypochlorous acid, water, and, optionally, a buffer. The inventive low pH antimicrobial solutions have a pH from about 4 to about 6 and are useful for treating impaired or damaged tissue and for disinfecting surfaces. Chemical processes for the production of the low pH antimicrobial solutions are also provided wherein chlorine gas is added to a buffer solution containing a buffering agent and water. The present invention also provides an electrochemical process for the production of the low pH antimicrobial solutions.本発明は、次亜塩素酸、水、及び、随意に、緩衝液を含む、低ｐＨ抗菌溶液に関する。本発明の低ｐＨ抗菌溶液は約４～約６のｐＨを有し、障害されたか又は損傷された組織を治療するため及び表面を殺菌するために有用である。塩素ガスが緩衝剤及び水を含む緩衝液に添加される、低ｐＨ抗菌溶液の製造のための化学プロセスも提供される。本発明は、低ｐＨ抗菌溶液の製造のための電気化学プロセスも提供する。【選択図】図１
