The present invention relates to low pH antimicrobial solutions comprising hypochlorous acid, water, and, optionally, a buffer. The inventive low pH antimicrobial solutions have a pH from about 4 to about 6 and are useful for treating impaired or damaged tissue and for disinfecting surfaces. Chemical processes for the production of the low pH antimicrobial solutions are also provided wherein chlorine gas is added to a buffer solution containing a buffering agent and water. The present invention also provides an electrochemical process for the production of the low pH antimicrobial solutions.본 발명은 차아염소산, 물 및 임의로 완충제를 포함하는 저 pH 항미생물 용액에 관한 것이다. 본 발명의 저 pH 항미생물 용액은 약 4 내지 약 6의 pH를 가지며, 손상되거나 피해를 입은 조직을 치료하고 표면을 소독하는데 유용하다. 또한, 본 발명은 완충제 및 물을 함유하는 완충 용액에 염소 기체를 첨가하는, 저 pH 항미생물 용액의 제조를 위한 화학적 방법을 제공한다. 또한, 본 발명은 저 pH 항미생물 용액을 제조를 위한 전기화학적 방법을 제공한다.
