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脂肪酸アルカノールアミド誘導体混合物を含有する含有するクレンジング組成物
专利权人:
KAWAKEN FINE CHEMICALS CO LTD
发明人:
AOKI TSUTOMU,青木 強
申请号:
JP2016190879
公开号:
JP2018052858A
申请日:
2016.09.29
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cleansing composition which has high removal ability of make-up stains, excellent stability, less oiliness after use and excellent rinsing properties during washing off and imparts a moist feeling to the skin.SOLUTION: There is provided a cleansing composition which comprises (A) a fatty acid alkanolamide derivative mixture represented by general formula (1) and a nonionic surfactant (provided that PEG-20 glyceryl triisostearate is excluded). [R1 is a hydrocarbon chain having 7-21 carbon atoms or a mixture thereof R2 is H or a substituent of formula (2), A is H, a methyl group or a -CH2CH2O-R3 group the R3 group is H or a substituent of formula (2) with the exception that R2 and A, and R2 and R3 are simultaneously a hydrogen atom R4 is a hydrocarbon chain having 7-21 carbon atoms or a mixture thereof p is 0 or 1.]SELECTED DRAWING: NoneCOPYRIGHT: (C)2018,JPO&INPIT【課題】メイク汚れの除去能力が高く、安定性に優れ、使用後の油っぽさが少なく、洗い流す際のすすぎ性に優れ、肌にしっとり感を与えるクレンジング組成物を提供する。【解決手段】(A)一般式(1)の構造で示される脂肪酸アルカノールアミド誘導体混合物及び(B)ノニオン界面活性剤(但し、トリイソステアリン酸PEG-20グリセリルは除く)を含有するクレンジング組成物。[R1はC7~21の炭化水素鎖又はそれらの混合物;R2はH又は式(2)の置換基;AはH、メチル基、又は-CH2CH2O-R3基;R3基はH又は式(2)の置換基;R2及びA、R2及びR3が同時に水素原子である場合は除く;(R4は炭素数7~21の炭化水素鎖又はそれらの混合物;pは0又は1)]【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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