The present invention addresses the problem of providing a cleaning solution, which has high stability, produces a high concentration of hypochlorous acid during cleaning, and has bacteria- and virus-killing and cleaning effects. A means for solving said problem is an aqueous solution comprising hypochlorous acid and hypochlorous acid ions produced by diaphragm-free electrolysis. The available residual chlorine concentration being adjusted to 500 ppm to 2000 ppm and the hydrogen ion concentration index to pH 8.5 - pH 9.5 creates a cleaning solution, which is stable over long periods while exhibiting high microbicidal and cleaning effects when used.La présente invention a pour objet de réaliser une solution de nettoyage qui est caractérisée par une grande stabilité, produit une forte concentration d'acide hypochloreux pendant le nettoyage et a des effets d'élimination de bactéries et de virus et de nettoyage. Un moyen de résoudre le problème en question est une solution aqueuse comportant de l'acide hypochloreux et des ions acide hypochloreux produits par électrolyse sans membrane. Le fait de régler la concentration de chlore résiduel disponible entre 500 ppm et 2000 ppm et l'indice de concentration en ion hydrogène entre pH 8,5 et pH 9,5 crée une solution de nettoyage qui est stable sur de longues périodes tout en présentant d'importants effets microbicide et de nettoyage lorsqu'elle est utilisée.本発明においては、安定性が高く、洗浄時に、高濃度の次亜塩素酸を産生し、細菌やウィルスを殺菌および洗浄する作用を有する洗浄水を提供することを課題とし、この課題を解決する手段として、無隔膜電気分解法により、産生される次亜塩素酸および次亜塩素酸イオンを含む水溶液であって、そお有効残留塩素濃度が５００ppmから２０００ppm、且つ、水素イオン濃度指数がｐＨ８．５からｐＨ９．５に調整されていることにより、長期に安定性を保持しつつ、使用時において高い殺菌および洗浄作用を示す洗浄水を作成した。
