您的位置：
首页
>
农业专利
>
详情页
プラズマエッチング装置用の電極に設けられたガス導入孔の測定方法、電極、電極の再生方法、プラズマエッチング装置、ガス導入孔の状態分布図の表示方法
- 专利权人:
- エーサット株式会社
- 发明人:
- 鈴木 崇之
- 申请号：
- JP20160550830
- 公开号：
- JPWO2016104754(A1)
- 申请日:
- 2015.12.25
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- プラズマエッチング装置用の電極に設けられたガス導入孔を高精度に測定することができる測定方法及び精度の高いガス導入孔を備えた電極を提供すること。本発明のプラズマエッチング装置用の電極に設けられたガス導入孔の測定方法は、プラズマエッチング装置用の電極における基材を厚さ方向に貫通するよう設けられたガス導入孔を測定する方法であって、基材の一方面側からガス導入孔に向けて光を照射する工程と、ガス導入孔を介して基材の他方面側に透過した光の２次元画像を取得する工程と、２次元画像に基づいてガス導入孔の径、内壁面の粗さ及び垂直度合いのうち少なくとも１つを測定する工程と、を備えたことを特徴とする。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
