A skin washing composition containing the following components (A), (B), (C), and (D): (A) 0.5 mass% to 6 mass% inclusive of an alkylether carboxylic acid or salt thereof represented by the general formula (1) (wherein, R1 is a C4-C22 alkyl group, n is a number 0 to 20, M is a hydrogen atom, alkali metal, alkaline-earth metal, ammonium, or organic ammonium), the alkylether carboxylic acid or salt thereof having an average carbon number for R1 of 10.8 to 12.8 and containing greater than 9.6 mass% but less than or equal to 27 mass% for the n = 0 component, and 21 mass% or more but less than 40 mass% as the total of the n = 1 component and n = 2 component (B) 0.1 mass% to 1 mass% inclusive of cellulose to which a hydroxyethyl group or hydroxypropyl group has been added (C) 3 mass% to 30 mass% inclusive of an anionic surfactant other than the component (A) and (D) water. R1-O-(CH2CH2O)n-CH2-COOM (1)Linvention concerne une composition de lavage de la peau contenant les composants suivants (A), (B), (C) et (D) : (A) 0,5 % en masse à 6 % en masse inclus dun acide alkyléther carboxylique ou dun sel de celui-ci représenté par la formule (1) (dans laquelle R1 est un groupe alkyle en C4-C22, n est un nombre de 0 à 20, M est un atome dhydrogène, un métal alcalin, un métal alcalino-terreux, ammonium, ou un ammonium organique), lacide alkyléther carboxylique ou le sel de celui-ci ayant un nombre moyen de carbones pour R1 de 10,8 à 12,8 et contenant plus de 9,6 % en masse mais moins de ou 27 % en masse pour le composant n = 0, et 21 % en masse ou plus mais moins de 40 % en masse comme total du composant n = 1 et du composant n = 2 (B) 0,1 % en masse à 1 % en masse inclus de cellulose à laquelle un groupe hydroxyéthyle ou groupe hydroxypropyle a été ajouté (C) 3 % en mass à 30 % en masse inclus dun tensio-actif anionique autre que le composant (A) et (D) de leau. R1-O-(CH2CH2O)n-CH2-COOM (1)次の成分(A)、(B)、(C)及び(D): (A)一般式(1) (式中、R1は炭素数4~22のアルキル基を示し、nは0~20の数を示し、Mは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、ア
