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一种制备柔性衬底薄膜的磁控溅射装置
- 专利权人:
- 凯盛光伏材料有限公司;中国建筑材料科学研究总院;蚌埠玻璃工业设计研究院
- 发明人:
- 彭寿,姚婷婷,金克武,张宽翔,杨勇,蒋继文,曹欣,徐根保
- 申请号：
- CN201520990901.X
- 公开号：
- CN205133730U
- 申请日:
- 2015.12.03
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2016
- 代理人:
- 杨晋弘
- 摘要：
- 本实用新型公开一种制备柔性衬底薄膜的磁控溅射装置，包括基片与靶材，所述靶材包括上靶材与下靶材，两个靶材上下相对设置；上靶材的上部与下靶材的下部设有在两个靶材之间形成磁场的磁体，磁场方向与靶材垂直；所述基片垂直设置于两个靶材的外侧；溅射过程中，二次电子飞出靶面后，被靶材阴极的电场加速，电子受磁场束缚向阳极运动，并被有效的封闭在两个靶极之间作洛仑兹运动，形成柱状等离子体，电子能量耗尽后，最终沉积在基片上；由于该电子的能量很低，基片温升较低并且使得薄膜有效避免了离子损伤，同时，薄膜是由靶材离子散射和热分解沉积得到，因此薄膜在室温中沉积，避免柔性衬底在传统磁控溅射过程中烧糊，变形等损坏，保证薄膜质量。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
