PARK, KWANG BUM,박광범,AN, HYUN WOOK,안현욱,YANG, CHANG HEE,양창희
申请号：
KR1020110028367
公开号：
KR1011029930000B1
申请日:
2011.03.29
申请国别(地区):
KR
年份:
2012
代理人:
摘要：
PURPOSE: An apparatus for treating the surface of a dental implant is provided to improve cell activation and symphysis. CONSTITUTION: An apparatus for treating the surface of a dental implant comprises: a main body(11) equipped with a process chamber in which a surface processing object is received； a cover(12) which selectively opens the process chamber； a light source(14) which is installed to the inner circumference of the cover and irradiates ultraviolet ray to the surface of the surface processing object； a reflector which reflects ultraviolet ray emitted from the light source toward the surface processing object； a cooling fan which cools the processing chamber； and a mounting module equipped with a terminal.본 발명의 실시예에 따른 치과용 임플란트의 표면 처리 장치는, 본 발명의 실시예에 따른 치과용 임플란트의 표면 처리 장치는, 표면 처리 대상물이 수용되는 처리 챔버를 구비하는 본체； 소정 곡률로 만곡되는 형태로 상기 본체에 회동 가능하게 결합되어, 상기 처리 챔버를 선택적으로 개방하는 커버； 상기 커버의 내주면에 장착되며,상기 표면 처리 대상물의 표면에 자외선을 조사하는 광원； 상기 처리 챔버의 바닥에 놓여서 상기 광원으로부터 방출되는 자외선을 상기 표면 처리 대상물 쪽으로 반사하는 반사판； 상기 처리 챔버의 하측에 해당하는 상기 본체의 내부에 제공되며, 상기 처리 챔버 내부에 존재하는 고온의 공기를 상기 본체 외부로 방출하여, 상기 처리 챔버 내부를 냉각시키는 냉각팬； 및 상기 본체로부터 분리 가능하게 결합되고, 다수의 표면 처리 대상물이 상기 챔버 내부에 수용된 상태에서 상기 다수의 표면 처리 대상물을 회전시키는 구동 메카니즘 및 상기 구동 메카니즘으로 선택적으로 전원을 공급하기 위한 터미널이 구비되는 장착 모듈을 포함한다.
