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COMPOSITION FOR PREVENTING SCATTERING OF POLISHING WASTE OF NAIL OR SKIN
专利权人:
三菱製紙株式会社;MITSUBISHI PAPER MILLS LTD
发明人:
HIRATA KENJI,平田 賢治
申请号:
JP2018032803
公开号:
JP2019147754A
申请日:
2018.02.27
申请国别(地区):
JP
年份:
2019
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composition for preventing scattering of polishing waste of a nail or skin that has good polishing waste inclusion properties when polishing a nail or skin and also suppresses the polishing waste scattering preventing composition preventing the polishing waste from scattering in a short time.SOLUTION: A composition for preventing scattering of polishing waste of a nail or skin contains a thickening compound and a solvent component. Relative to the total content of the solvent component, a water content is 90 mass% or more.SELECTED DRAWING: NoneCOPYRIGHT: (C)2019,JPO&INPIT【課題】爪または皮膚を研磨する際、良好な研磨カス包摂性を有すると共に、これらが包摂された研磨カス飛散防止組成物が短時間で飛散することを抑制することが可能な爪または皮膚の研磨カス飛散防止組成物を提供する。【解決手段】増粘性化合物および溶媒成分を含有する爪または皮膚の研磨カス飛散防止組成物であって、全溶媒成分量に対する水の割合が90質量%以上である事を特徴とする爪または皮膚の研磨カス飛散防止組成物。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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