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一种非均匀等高梯度细胞捕获芯片的制备方法
- 专利权人:
- 武汉友芝友医疗科技股份有限公司
- 发明人:
- 刘侃,项坚真,陈婷,方义,邹恒
- 申请号：
- CN201510922170.X
- 公开号：
- CN105567547B
- 申请日:
- 2015.12.11
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 吴开磊
- 摘要：
- 本发明公开了一种非均匀等高梯度细胞捕获芯片的制备方法，其步骤：1、基底的选择及处理：基底是玻璃、石英或者硅；清洗，去除玻璃表面的油污等杂质；2、刻蚀掩膜制备：对玻璃基底进行烘干处理，得到要刻蚀的区域；3、湿法刻蚀：将选择的基底经过刻蚀掩膜处理后，按照旋转速率将基底旋转放入到刻蚀液中，使基底在刻蚀液中的旋转角度，得到不同等高面的非均匀等高梯度的结构。4、打孔；5、盖片与基底的组合制备微流芯片：选取盖片与基底进行组合制备微流芯片，得到具有得到不同等高面的非均匀等高梯度细胞捕获芯片。方法易行，操作简便，加工简单，效率高，具有良好的生物化学稳定性并且芯片细胞捕获面大而且长的特点的微流芯片。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
