A non-antimicrobial cleansing composition is disclosed comprising from about 10.0 wt.% to less than about 40 wt.% of one or more C1-C8 alcohols； about 0.5 wt.% to about 10.0 wt.% of at least one primary surfactant； 0 wt.% to about 10.0 wt.% of at least one secondary surfactant, with the primary and secondary surfactants having an HLB value greater than 8； a pH adjusting agent； and water. The composition does not achieve a microbial kill level greater than 2.0 log.L'invention concerne une composition de nettoyage non antimicrobienne comprenant d'environ 10,0 % en poids à moins d'environ 40 % en poids d'un ou plusieurs alcools en C1-C8 ； environ 0,5 % en poids à environ 10,0 % en poids d'au moins un tensioactif primaire ； 0 % en poids à environ 10,0 % en poids d'au moins un tensioactif secondaire, les tensioactifs primaire et secondaire ayant une valeur de HLB supérieure à 8 ； un agent d'ajustement de pH ； et de l'eau. La composition ne permet pas d'atteindre un niveau de destruction microbienne supérieur à 2,0 log.
