A non-antimicrobial cleansing composition is disclosed comprising from about 10.0 wt. % to less than about 40 wt. % of one or more C1-C8 alcohols； about 0.5 wt. % to about 10.0 wt. % of at least one primary surfactant； 0 wt. % to about 10.0 wt. % of at least one secondary surfactant, with the primary and secondary surfactants having an HLB value greater than 8； a pH adjusting agent； and water. The composition does not achieve a microbial kill level greater than 2.0 log.L'invention concerne une composition de nettoyage à faible teneur en eau qui comprend de 5,0 % en poids à moins de 40 % en poids d'un ou plusieurs alcools en C1-C8, au moins 10,0 % en poids d'un mélange d'au moins deux tensioactifs, au moins 0,05 % en poids d'un ajusteur de pH ； et de l'eau, les concentrations étant basées sur un poids total de la composition de nettoyage à faible teneur en eau.
