用于放射线成像的格栅和用于制造该格栅的方法
- 专利权人:
- 富士胶片株式会社
- 发明人:
- 金子泰久
- 申请号：
- CN201180007870.6
- 公开号：
- CN102741709A
- 申请日:
- 2011.03.18
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2012
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了一种用于放射线成像的格栅和制造该格栅的方法。导电基板(18)和蚀刻基板(20)相互结合。蚀刻掩模(25)使用光刻技术形成在蚀刻基板(20)上，沟槽(20a)和X射线透射部分(14b)通过干蚀刻使用博施法形成。沟槽(20a)通过电镀方法使用导电基板(18)作为电极填充有Au(27)。因此，X射线吸收部分(14a)形成。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
