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COSMETIC COMPOSITION FOR MAKEUP REMOVAL COMPRISING WATER-SOLUBLE SURFACTANT AND OIL-SOLUBLE SURFACTANT
专利权人:
AMOREPACIFIC CORPORATION;(주)아모레퍼시픽
发明人:
PARK HYO YOUNG,박효영,YU HYUN JU,유현주
申请号:
KR1020190032725
公开号:
KR1020190114797A
申请日:
2019.03.22
申请国别(地区):
KR
年份:
2019
代理人:
摘要:
The present invention relates to a cosmetic composition for makeup removal comprising a water-soluble surfactant and an oil-soluble surfactant and, more specifically, to a cosmetic composition for makeup removal which comprises, as an active ingredient, a mixture of a water-soluble surfactant having a hydrophile-lipophile balance (HLB) value of at least 13 and an oil-soluble surfactant having an HLB value of at most 12. The cosmetic composition can excellently remove makeup residues resulting from using a makeup product, can excellently improve the clarity of the composition, and leaves excellent applicability on the skin.COPYRIGHT KIPO 2020본 발명은 수용성 계면활성제 및 유용성 계면활성제를 포함하는 메이크업 화장 제거용 조성물에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 HLB(Hydrophile Lipophile Balance) 값이 13 이상인 수용성 계면활성제와 HLB 값이 12 이하인 유용성 계면활성제의 혼합물을 유효성분으로 포함하는, 메이크업 제품 사용에 따른 메이크업 잔류물의 제거 효능이 우수하고, 조성물의 투명도 향상 효과 및 피부에 대한 사용감이 우수한 메이크업 화장 제거용 화장료 조성물에 관한 것이다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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