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有機ＥＬ素子用の保護膜の形成方法、表示装置の製造方法および表示装置
- 专利权人:
- 株式会社日本製鋼所
- 发明人:
- 鷲尾 圭亮,松本 竜弥,次田 純一,海老沢 孝
- 申请号：
- JP20160159659
- 公开号：
- JP2018028996(A)
- 申请日:
- 2016.08.16
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】有機ＥＬ素子用の保護膜の性能を向上させる。【解決手段】有機ＥＬ素子を有する表示装置の製造方法は、基板１１上に有機ＥＬ素子を形成する工程と、有機ＥＬ素子を覆うように保護膜１６を形成する工程と、を有する。保護膜１６は、Ｓｉを含有する絶縁膜１６ａと、Ａｌを含有する絶縁膜１６ｂと、Ｓｉを含有する絶縁膜１６ｃとを有する積層膜からなる。保護膜１６を形成する工程は、有機ＥＬ素子を覆うように絶縁膜１６ａをプラズマＣＶＤ法を用いて形成する工程と、絶縁膜１６ａ上に絶縁膜１６ｂをＡＬＤ法を用いて形成する工程と、絶縁膜１６ｂ上に絶縁膜１６ｃをプラズマＣＶＤ法を用いて形成する工程と、を有する。【選択図】図３
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
