一种紫外纳米压印的减反射膜
- 专利权人:
- 无锡英普林纳米科技有限公司
- 发明人:
- 王晶
- 申请号：
- CN201610429915.3
- 公开号：
- CN105924935A
- 申请日:
- 2016.06.17
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2016
- 代理人:
- 许希富
- 摘要：
- 本发明公开了一种紫外纳米压印的减反射膜，包括如下质量份数的组分：高密度聚乙烯25‑35份，一氟二氯乙烷10‑20份，二甲基硅氧烷35‑55份，纤维20‑25份，环氧大豆油15‑30份，亚油酸10‑20份，聚酯树脂5‑10份，分子筛1‑7份，石蜡10‑20份，氯化石蜡3‑10份，石油磺酸钙13‑25份，硫酸45‑65份，癸二酸二丁酯3‑10份，十七烷基三甲基氯5‑15份等。本发明通过对聚氨酯及聚乙烯进行改性而得到纳米改性材料，该改性材料具有弹性好、吸音、隔热、耐油、耐高温、耐寒、耐磨及减震特性，本发明还具有纳米抗菌。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
