A system and method for specular reflection detection and reduction includes a processing unit including one or more processors and an imaging unit coupled to the processing unit. The imaging unit may include one or more first illuminators for providing illumination of a region of interest, one or more first detectors for detecting reflections of the illumination, one or more first detectors for triggering fluorescence of one or more fluorescent materials within the region of interest Second illuminators, and one or more second detectors for detecting the fluorescence of the fluorescent materials. Wherein the processing unit is configured to receive a first image from the first detectors, to determine regions of one or more higher regular reflectance in the first image, mask regions of the higher regular reflection in the first image, 1 image and a synthesized image based on the detected fluorescence. The first image includes the detected reflections.정반사 검출 및 저감의 시스템 및 방법은 하나 이상의 프로세서들을 포함하는 처리 유닛 및 상기 처리 유닛에 결합된 이미징 유닛을 포함한다. 상기 이미징 유닛은 관심 영역의 조명을 제공하기 위한 하나 이상의 제1 조명기들, 상기 조명의 반사들을 검출하기 위한 하나 이상의 제1 검출기들, 상기 관심 영역 내의 하나 이상의 형광 물질들의 형광을 트리거하기 위한 하나 이상의 제2 조명기들, 및 상기 형광 물질들의 상기 형광을 검출하기 위한 하나 이상의 제2 검출기들을 포함한다. 상기 처리 유닛은 상기 제1 검출기들로부터 제1 이미지를 수신하고, 상기 제1 이미지에서 하나 이상의 높은 정반사의 영역들을 결정하고, 상기 제1 이미지에서 상기 높은 정반사의 영역들을 마스킹하고, 상기 마스킹된 제1 이미지 및 상기 검출된 형광에 기초하여 합성 이미지를 생성하도록 구성된다. 상기 제1 이미지는 상기 검출된 반사들을 포함한다.
