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静電霧化装置
专利权人:
パナソニック電工株式会社
发明人:
浅野 幸康,三原 史生
申请号:
JP2010525695
公开号:
JPWO2010021332A1
申请日:
2009.08.19
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
By spraying for subjects by generating charged particles of nanometer size containing the (active species) radical, showing dry skin, to provide an electrostatic atomizer which improve skin dryness. An electrostatically atomizing device including a discharge electrode 1, a liquid supply means 2 the liquid to the discharge electrode 1, and a high voltage applying unit 3 for applying a high electric field to the liquid in the discharge electrode 1, a high voltage applying means is characterized in that by applying a high electric field to the liquid supplied to the discharge electrode, to generate 10 14 or more 1 × per second charged particles.ラジカル(活性種)を含むナノメータサイズの帯電微粒子を発生させて、乾燥肌を示す被験者に対し噴霧することで、肌乾燥を改善させる静電霧化装置を提供する。放電電極1と、放電電極1に液体を供給する液体供給手段2と、放電電極1の液体に高電界を印加する高電圧印加手段3とを備えた静電霧化装置であって、高電圧印加手段は、上記放電電極に供給された上記液体に高電界を印加して、帯電微粒子を1秒間に1×1014個以上発生させることを特徴とする。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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