High-solubility acetone-added pyrroloquinoline quinone salt

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专利权人:

Inc.;Mitsubishi Gas Chemical Company

发明人:

Kazuto Ikemoto

申请号：

US15544403

公开号：

US10131661B2

申请日:

2015.12.15

申请国别(地区):

US

年份:

2018

代理人:

摘要：

There are provided an alkali metal salt of 5-hydroxy-4-oxo-5-(2-oxopropyl)-4,5-dihydro-1H-pyrrolo[2,3-f]quinoline-2,7,9-tricarboxylic acid, a method for producing the alkali metal salt, and a cocrystal comprising the alkali metal salt.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/