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磁场调整用磁矩配置计算方法以及磁场调整装置
- 专利权人:
- 株式会社日立制作所
- 发明人:
- 花田光,榊原健二,阿部充志,藤川拓也
- 申请号：
- CN201680007258.1
- 公开号：
- CN107205688B
- 申请日:
- 2016.27.01
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明的特征在于,测量具备磁场调整机构的磁场发生装置内的预先决定的评价区域的磁场分布,上述磁场调整机构通过配置磁矩来调整静磁场,计算上述测量出的磁场分布与上述评价区域的预先决定的目标磁场强度的差即误差磁场分布,在将上述误差磁场分布分解为通过奇异值分解得到的由上述磁场发生装置产生的磁场的各固有模式的成分时,将上述固有模式中的低次模式的成分的修正与高次模式的成分的修正进行组合,来进行用于对上述误差磁场分布近似地进行修正的上述磁矩的配置的计算,上述低次模式为按照奇异值从大到小的顺序向各固有模式赋予的固有模式编号从第1固有模式编号至通过第一阈值确定的固有模式编号为止的固有模式群,上述高次模式为比上述第一阈值大的固有模式群,上述高次模式的成分的修正量小于上述低次模式的成分的修正量。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
