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一种原位检测直接带隙AlxGa1-xAs分子束外延薄膜材料组分方法和装置
专利权人:
中国科学院上海技术物理研究所
发明人:
陆卫,刘兴权,穆耀明,杜捷,查访星,乔怡敏,史国良,严立平,欧海疆,万明芳,陈效双,吴小平,沈学础
申请号:
CN96116505.7
公开号:
CN1088190C
申请日:
1996.09.12
申请国别(地区):
中国
年份:
2002
代理人:
高毓秋
摘要:
本发明提供了一种在超高真空条件下非接触式的原位AlxGa1-xAs组分检测技术,它把分子束外延系统的超高真空条件,与调制光谱系统有机地结合起来,形成了一个测量AlxGa1-xAs薄膜Al组分的准确有效的方法,本发明介绍了该系统的结构,包括光路结构与分子束外延系统的结合,及测量控制系统与数据采集系统,在硬件及软件上形成一整套完善的系统,尤其适宜于对超薄层及对有多层复杂结构的AlxGa1-xAs生长过程中在位组分检测。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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