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肌の保湿装置
专利权人:
パナソニック株式会社
发明人:
今堀 修,平井 利久,須川 晃秀,三原 史生,秋定 昭輔,渡邉 智治,吉岡 浩一,小林 健太郎
申请号:
JP2013052862
公开号:
JP5514342B2
申请日:
2013.03.15
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a moisturizing device that moisturizes the skin by exposing the human body to ion mist, without forcing a user to replenish water or remove adhered matter.SOLUTION: The moisturizing device includes: an electrode a water supply means for supplying water to the electrode based on a level of moisture in the air and a high voltage application means for applying a high voltage to the electrode. A high voltage is applied to the water supplied to the electrode to thereby generate nano-size mist, and then the nano-size mist is exposed to the human body.COPYRIGHT: (C)2013,JPO&INPIT【課題】使用者に水補給の手間や付着物除去の手間を強いることなく、ミストを人体に曝露させて保湿することのできる保湿装置を提供する。【解決手段】本発明を、電極と、空気中の水分を基に電極に水を供給する水供給手段と、電極に高電圧を印加する電極印加手段と、を備え、電極に供給された水に高電圧を印加してナノサイズのミストを生成し、前記ナノサイズのミストを人体に曝露することを特徴とする肌の保湿装置とする。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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