支持・放射状拡散スカフォールディングを備える埋込み型細胞デバイス

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专利权人:

エヌエスジーン・アクティーゼルスカブ

发明人:

ヴァルベアウ,ラース・ウルレク,トルネ,イェンス

申请号：

JP2013529550

公开号：

JP5852655B2

申请日:

2011.09.27

申请国别(地区):

JP

年份:

2016

代理人:

摘要：

The invention features an implantable cell device that includes a membrane defining and enclosing a chamber a distance body within the chamber for reducing the diffusion distance for a biological active factor to or across the membrane and a support scaffold within the chamber for increasing the cell support surface area per unit volume of the chamber for distributing cells.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/