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粒子线治疗计划装置及粒子线治疗装置
- 专利权人:
- 株式会社日立制作所
- 发明人:
- 藤高伸一郎,藤井佑介,藤本林太郎,平本和夫,秋山浩
- 申请号：
- CN201210113609.0
- 公开号：
- CN102743821A
- 申请日:
- 2012.04.17
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2012
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供粒子线治疗计划装置及粒子线治疗装置。在均匀扫描或层叠原体扫描中，能有效地利用带电粒子束并缩短治疗时间。在均匀扫描中，治疗计划装置计算一样地照射准直器开口区域的最佳的带电粒子束扫描路径。在层叠原体照射中，治疗计划装置对每个层计算一样地照射层分割了的患部各层的多叶式瞄准仪开口区域的最佳的带电粒子束扫描路径，或者，治疗计划装置计算覆盖各层的多叶式瞄准仪开口区域的最小的照射区域尺寸，选择与存储在粒子线治疗控制装置的存储器上的照射区域尺寸对应的带电粒子束扫描路径。通过与准直器开口区域一致地使均匀扫描或在层叠原体照射的各层的横向的带电粒子束扫描路径适当地变化，解决课题。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
