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噴霧装置用化粧料
专利权人:
MTG;KK
发明人:
MATSUSHITA TAKESHI,松下 剛
申请号:
JP2012227340
公开号:
JP2014080375A
申请日:
2012.10.12
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cosmetic for a spray device, capable of increasing dissolution quantity of carbon dioxide gas and facilitating application to the skin to improve blood flow-promoting effect.SOLUTION: A lotion 21 as a cosmetic for a spray device is housed in a liquid container 20 of a spray device with a carbon dioxide gas as a propellant and mist-sprayed by injection of the carbon dioxide gas. The lotion 21 contains a pH buffer composed of plural kinds of compounds in water. The plural kinds of compounds composing the pH buffer are, for example, an acid salt and an alkaline salt, and specifically the acid salt is potassium dihydrogen phosphate and the alkaline salt is dipotassium hydrogenphosphate. In that case, the lotion 21 has a pH of 6 to 8. The concentration of the pH buffer in the lotion 21 is preferably 0.008 to 0.4 molar concentration.COPYRIGHT: (C)2014,JPO&INPIT【課題】炭酸ガスの溶解量を高め、肌への移行を促して、血流促進効果を向上させることができる噴霧装置用化粧料を提供する。【解決手段】噴霧装置用化粧料としての化粧水21は、炭酸ガスを噴射剤とする噴霧装置の液体容器20に収容され、炭酸ガスの噴射によりミスト状に噴霧される。この化粧水21は、複数種類の化合物で構成されるpH緩衝剤を水中に含有する。pH緩衝剤を構成する複数種類の化合物は、例えば酸性塩とアルカリ性塩であり、具体的には酸性塩がリン酸二水素カリウムであり、アルカリ性塩がリン酸水素二カリウムである。その場合、化粧水21のpHは6~8である。また、pH緩衝剤の化粧水21中における濃度は0.008~0.4モル濃度であることが好ましい。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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