Es wird eine Vorrichtung zur Plasmabehandlung von Oberflächen (47), insbesondere von Haut, mit einem Gehäuse (3), einer dem Gehäuse (3) zugeordneten Plasmaquelle (5) und mindestens einer Abstandshalteeinrichtung (21), die so an dem Gehäuse (3) und/oder der Plasmaquelle (5) vorgesehen ist, dass zumindest bereichsweise ein Abstand (d) zwischen der Plasmaquelle (5) und einer zu behandelnden Oberfläche (47) einhaltbar ist, vorgeschlagen. Die Vorrichtung zeichnet sich dadurch aus, dass die Abstandshalteeinrichtung (21) einstellbar ausgebildet ist, um den Abstand (d) zu variieren, und dass der Abstand (d) derart variierbar ist, dass eine bevorzugte Plasmachemie am Ort der zu behandelnden Oberfläche (47) auswählbar ist.The invention relates to a device for the plasma treatment of surfaces (47), in particular of skin, having a housing (3), a plasma source (5) allocated to the housing (3), and at least one spacer (21) that is provided on the housing (3) and/or the plasma source (5) in such a manner that a distance (d) between the plasma source (5) and a surface (47) to be treated can be maintained at least in some regions. The device is characterized in that the spacer (21) is designed to be adjustable in order to vary the distance (d) and that the distance (d) can be varied in such a manner that a preferred plasma chemistry can be selected at the location of the surface (47) to be treated.Dispositif de traitement de surfaces (47) au plasma, en particulier de peau, qui comporte un boîtier (3), une source de plasma (5) associée au boîtier (3) et au moins un dispositif de maintien décart (21) fixé sur le boîtier (3) et/ou sur la source de plasma (5) de manière telle quun écart (d) peut être maintenu au moins par endroits entre la source de plasma (5) et une surface à traiter (47). Ledit dispositif se caractérise en ce que le dispositif de maintien décart (21) est conçu de manière réglable pour modifier lécart (d) et en ce que lécart (d) peut être modifié de manière telle quune
