一种石墨烯‑聚酰亚胺导电黑膜的制备方法
- 专利权人:
- 哈尔滨工业大学
- 发明人:
- 李垚,寇玉洁,张盼盼,王月敏,赵九蓬
- 申请号：
- CN201410341743.5
- 公开号：
- CN104151582B
- 申请日:
- 2014.07.17
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 李涛
- 摘要：
- 本发明公开了一种石墨烯‑聚酰亚胺导电黑膜的制备方法。所述方法包括对可膨胀石墨进行二次膨胀的步骤、制备石墨烯与黑色填料分散液的步骤、获得石墨烯‑聚酰胺酸黑色溶液的步骤以及制备石墨烯‑聚酰亚胺导电黑膜的步骤。本发明的方法简单，易于操作，成本低。由本发明方法获得的石墨烯‑聚酰亚胺导电黑膜表面平整，吸光率高，耐热性好，机械强度佳,可用本发明的方法制成黑色覆盖膜,黑色抗静电薄膜,黑色阻燃性薄膜等,广泛用于LED、挠性印制电路板、军品软塑包装膜、航天飞行器的电磁波屏蔽和耐热材料等领域。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
