PROCÉDÉ DE CULTURE DE PLANTES ET DISPOSITIF DE CULTURE DE PLANTES

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专利权人:

SHARP KABUSHIKI KAISHA;NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION SHIZUOKA UNIVERSITY;シャープ株式会社;国立大学法人静岡大学

发明人:

FUNAMORI, Hirokazu,船守宏和,YAMAMOTO, Satohiko,山本聡彦,IYATANI, Kazushi,飯屋谷和志,NISHIKAWA, Kazuo,西川和男,IKKA, Takashi,一家崇志,MORITA, Akio,森田明雄,TANAKA, Yasuno,田中靖乃,ONO, Yoshiki,小野義貴

申请号：

JPJP2016/075440

公开号：

WO2017/149806A1

申请日:

2016.08.31

申请国别(地区):

JP

年份:

2017

代理人:

摘要：

A plant (10) is irradiated with positive and negative ions so that the growth of the plant is promoted by a simple method.Selon l'invention, une plante (10) reçoit des ions positifs et négatifs de sorte que la croissance de la plante est favorisée par un procédé simple.植物の成長を簡易な方法で促進する。植物（１０）に正イオン及び負イオンを照射する。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/