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NITROGEN-CONTAINING HETEROARYL DERIVATIVES
专利权人:
에프. 호프만-라 로슈 아게
发明人:
블레이셔 콘라드,플로어 알렉산더,그로에브케 즈빈덴 카트린,코에르너 마티아스,쿤 베른드,피터스 젠스-우웨,로드리게즈 사르미엔토 로사 마리아,비에이라 에릭
申请号:
KR1020127021841
公开号:
KR1020120124454A
申请日:
2011.01.19
申请国别(地区):
KR
年份:
2012
代理人:
摘要:
The invention is concerned with novel nitrogen-containing heteroaryl derivatives of formula (I) wherein R1, R2, R3, R4, R5, A1, A2, and Y are as defined in the description and in the claims, as well as physiologically acceptable salts and esters thereof. These compounds inhibit PDE10A and can be used as medicaments.본 발명은 하기 화학식 Ⅰ의 신규한 질소 함유 헤테로아릴 유도체 및 그의 약학적으로 허용가능한 염 및 에스테르에 관한 것이다:화학식 Ⅰ상기 식에서,R1, R2, R3, R4, R5, A1, A2 및 Y는 발명의 상세한 설명 및 청구항에 정의된 바와 같다. 이들 화합물은 PDE10A를 억제하여 약제로서 사용될 수 있다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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