The present invention relates to an apparatus (10) as well as a method for generating X-ray radiation, in particular for generating an X-ray radiation field, comprising an electron source (11 ) for generating an electron beam (12) as well as a target (13) for generation of X-ray radiation, in particular of an X-ray radiation field by electrons of the electron beam (12) impinging on the target (13). The present invention is characterized in that, the apparatus (10) is designed for generating an adjustable and/or changeable X-ray radiation, in particular for generating an adjustable and/or changeable X-ray radiation field, and in that the apparatus (10) has a variation appliance (15) for varying of at least one parameter of the electron beam source (11 ) and/or the electron beam (12) for influencing the X-ray radiation, in particular the X-ray radiation field.La présente invention concerne un appareil (10) ainsi quun procédé pour générer des rayons X, en particulier pour générer un champ de rayons X, comportant une source délectrons (11) pour générer un faisceau délectrons (12), ainsi quune cible (13) pour la génération de rayons X, en particulier dun champ de rayons X par des électrons du faisceau délectrons (12) heurtant la cible (13). La présente invention est caractérisée en ce que lappareil (10) est conçu pour générer des rayons X ajustables et/ou modifiables, en particulier pour générer un champ de rayons X ajustable et/ou modifiable, et en ce que lappareil (10) possède un dispositif de variation (15) pour faire varier au moins un paramètre de la source de faisceau délectrons (11) et/ou du faisceau délectrons (12) pour influencer les rayons X, en particulier le champ de rayons X.
