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一种清洗装置及其控制方法、清洗设备
- 专利权人:
- 京东方科技集团股份有限公司
- 发明人:
- 谢欢
- 申请号：
- CN201811296056.0
- 公开号：
- CN109461683A
- 申请日:
- 2018.01.11
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供了一种清洗装置及其控制方法、清洗设备,涉及显示器件制备技术领域。其中,该清洗装置包括:水箱;紫外线发射装置,设置于水箱的腔室内;液位传感器,设置于水箱的任一侧壁上,被配置为在水箱中的液位超过液位传感器的感应高度时,向紫外线发射装置的控制器发出液位信号;控制器,分别与紫外线发射装置和液位传感器连接,被配置为在接收到液位传感器的液位信号时,控制紫外线发射装置开启,以对水箱进行灭菌。本发明实施例中,控制器接收到液位传感器的液位信号时,可以控制紫外线发射装置开启,紫外线发射装置发出的紫外线可以对水箱进行灭菌,从而提高了显示器件的清洁度,避免因水体或水箱内壁存在菌体而导致显示器件不良的问题。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
