A method for providing a patterned surface, comprises: a) imprinting/thermally-embossing an article with a nano/micro size pattern b) optionally weaving said textured article into a mesh structure c) optionally imprinting/thermally-embossing the mesh with nano/micro size pattern d) applying the mesh to a surface having a softening point lower than the softening point of said textured article e) applying a pressure onto said mesh, while heating said surface to a temperature equal to or above its softening point, thereby to create a nano/micro pattern on said surface and f) optionally using the low softening point surface as a mold.La présente invention concerne un procédé de production dune surface à motif, consistant à : a) imprimer/graver thermiquement un article avec un motif de taille nano/micrométrique b) éventuellement tisser ledit article texturé selon une structure en maille c) éventuellement imprimer/graver thermiquement la maille avec ledit motif de taille nano/micrométrique d) appliquer la maille à une surface ayant un point de ramollissement inférieur à celui dudit article texturé e) appliquer une pression sur ladite maille, tout en chauffant ladite surface à une température supérieure ou égale à son point de ramollissement, créant ainsi un motif nano/micrométrique sur ladite surface et f) éventuellement utiliser la surface à point de ramollissement bas comme moule.
