A plasma generating system, related method and device are disclosed. The plasma generation system includes a plasma generation device, a source of ionizable gas and a driver network. The plasma generation device includes a housing, an electrode, and a resonant circuit. The housing includes a passage defined therein and directs a flow of ionizable gas therethrough. The electrode is coupled to the ionizable gas flowing through the passage of the housing. The resonant circuit includes a capacitor and an inductor connected together in series. The resonant circuit has a resonance frequency and is coupled to the electrode. The resonant circuit receives an AC signal. The driver network provides the AC signal such that the AC signal has a frequency and excites the ionizable gas flowing through the passage of the housing to a plasma.Linvention concerne un système de formation de plasma, un procédé et un dispositif apparentés. Le système de formation de plasma comprend un dispositif de formation de plasma, une source de gaz ionisable et un réseau pilote. Le dispositif de formation de plasma comprend un boîtier, une électrode et un circuit résonant. Le boîtier comprend un passage défini dans celui-ci et dirige un flux de gaz ionisable à travers celui-ci. Lélectrode est couplée à lécoulement de gaz ionisable à travers le passage du boîtier. Le circuit résonant comprend un condensateur et un inducteur connectés ensemble en série. Le circuit résonant a une fréquence de résonance et est couplé à lélectrode. Le circuit de résonance reçoit un signal alternatif. Le réseau pilote fournit le signal alternatif de sorte que celui-ci ait une fréquence et excite lécoulement de gaz ionisable à travers le passage du boîtier vers un plasma.
