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COMPOSITION ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE
专利权人:
LUBRIZOL ADVANCED MATERIALS; INC.
发明人:
HORIKOSHI, Toshio
申请号:
USUS2019/066498
公开号:
WO2020/131678A1
申请日:
2019.12.16
申请国别(地区):
US
年份:
2020
代理人:
摘要:
The disclosed technology relates to a composition and method for the treatment of a pruritic skin condition comprising cleansing the scalp and/or skin with a cleansing composition comprising: a) from about 0.25 to about 5 wt.% of an acrylic copolymer prepared from a monomer mixture comprising: i) from about 35 to about 65 wt.% of at least one acrylic acid, methacrylic acid; ii) from about 65 to about 35 wt.% of at least one C1 to C5 alkyl ester of acrylic acid or methacrylic acid; and iii) from about 0.03 to about 3 wt.% at least one polyunsaturated crosslinker monomer; b) from about 0.05 to about 2 wt.% of at least one cationic polymer; and c) from about 5 to about 20 wt.% of an anionic surfactant; and d) a water phase component present in an amount of q.s. to 100 wt.%.L'invention concerne une composition et un procédé pour le traitement d'une maladie de peau pruritique, comprenant le nettoyage du cuir chevelu et/ou de la peau avec une composition de nettoyage comprenant : a) environ 0,25 à environ 5 % en poids d'un copolymère acrylique préparé à partir d'un mélange de monomères comprenant : i) environ 35 à environ 65 % en poids d'au moins un acide acrylique, d'acide méthacrylique ; ii) environ 65 à environ 35 % en poids d'au moins un ester alkylique de C1 à C5 d'acide acrylique ou d'acide méthacrylique ; et iii) environ 0,03 à environ 3 % en poids d'au moins un monomère de réticulation polyinsaturé ; b) environ 0,05 à environ 2 % en poids d'au moins un polymère cationique ; et c) environ 5 à environ 20 % en poids d'un tensioactif anionique ; et d) un composant de phase aqueuse présent en quantité suffisante à 100 % en poids.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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