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基于单晶硅PN结的非制冷红外探测器阵列及其制备方法
专利权人:
中国科学院微电子研究所
发明人:
何伟,明安杰,薛惠琼,焦斌斌,欧毅,陈大鹏
申请号:
CN200810240275.7
公开号:
CN101441112B
申请日:
2008.12.18
申请国别(地区):
中国
年份:
2011
代理人:
王建国
摘要:
本发明涉及一种基于单晶硅PN结温度特性的非制冷红外探测器阵列及其制备方法。该阵列的制备方法包括:步骤A、硅片氧化还原,在纵向形成所述底硅层,埋氧层与顶硅层,同时通过底硅刻蚀,形成深槽,填充及平坦化,以在横向划分红外探测单元;步骤B、在每一红外探测单元中的顶硅层设置数个串联的单晶硅PN结;步骤C、在每一红外探测单元中形成所述电气连接布线,在所述单晶硅PN结与所述电气连接线上形成钝化层;步骤D、在每一红外探测单元中制作悬空的绝热悬臂梁,刻蚀所述底硅层,形成所述空腔。本发明利用单晶硅PN结的良好的温度特性,通过测量单晶硅PN结两端的电压的变化,以获得红外辐射强弱的探测结果。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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