您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

Process for producing optically active naphthalene compounds
专利权人:
田辺三菱製薬株式会社
发明人:
松山 浩士,初田 正典,吉永 雅彦,矢田 光宏,谷本 晃一
申请号:
JP2013530074
公开号:
JPWO2013027835A1
申请日:
2012.08.24
申请国别(地区):
JP
年份:
2015
代理人:
摘要:
The present invention provides an industrially advantageous method for producing an optically active naphthalene compound useful as a dermatitis therapeutic agent or the like. Specifically, the present invention includes a step of reacting compound [a-1] and compound [b-1] in the presence of a catalyst comprising a Pd compound and a tertiary phosphine ligand and a base (step a), compound [ c-1] is asymmetrically hydrogenated in the presence of a complex prepared from a ruthenium compound and an asymmetric ligand and a hydrogen donor, or an optically active oxazaborolidine compound (CBS catalyst) and hydrogenated Provided is a method for producing an optically active naphthalene compound [I] comprising a step of asymmetric hydrogenation in the presence of a boron compound (step b) and a step of treating compound [d-1] with a reducing agent (step c). [Wherein, Ra and Rb are the same or different lower alkyl, and X1 represents halogen. ]本発明は、皮膚炎治療薬等として有用な光学活性ナフタレン化合物の工業的有利な製造方法を提供する。具体的には、本発明は、化合物[a-1]と化合物[b-1]をPd化合物と三級ホスフィン配位子からなる触媒及び塩基存在下で反応させる工程(工程a)、化合物[c-1]を、ルテニウム化合物と不斉配位子から調製される錯体及び水素供与体の存在下で不斉水素化するか、或いは光学活性オキサザボロリジン類化合物(CBS触媒)及び水素化ホウ素類化合物存在下で不斉水素化する工程(工程b)及び化合物[d-1]を還元剤で処理する工程(工程c)からなる光学活性ナフタレン化合物[I]の製造方法を提供する。〔式中、Ra及びRbは同一又は異なる低級アルキル、X1はハロゲンを表す。〕
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充